滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

京东就是这么牛，服务很好，快递物流超快，第二天就收到件了，佩服啊。读碟快 刻录静音 音质很好 先锋就是先锋

做工很好，十年前买的先锋刻录机有点光头老化，再买一个用，完美，非常满意！京东物流就不用说了，快！光驱手感好，整体轻薄，使用时声音小，速度快，非常好用的一款！

显然，这里提到的三个逻辑晶圆厂应该是英特尔、台积电和三星，两个存储晶圆厂应该是三星和SK海力士

△ASML首个High-NA EUV光刻系统虽然，三星和SK海力士尚未公开证实这一点，但消息人士表示，他们已经向ASML下了订单

到2nm时或走到尽头

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

而俄罗斯在研究X射线光刻机，没有光掩模板，直接光刻，据称可以用于1nm芯片，但没有样品出来

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光刻机工厂

面对这种局面，想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了，不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明显

目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机，而且目前还没有正式量产，这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的，跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大

对英特尔、台积电以及三星这些头部芯片制造商来说，拥有最顶尖的光刻机，他们生产出来的芯片性能要领先其他厂家一大截，如此一来，其他厂家根本就没有竞争优势

已经实际应用

读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工