滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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对于中国来说，中国如今正在力推28nm、14nm光刻机的量产，这些都的DUV光刻机，与EUV光刻机可还隔着一代，在先进的DUV光刻机尚在努力攻克的情况下，推进EUV光刻机技术并不容易

如此就可以看出，中国企业提出的一两项专利其实对于光刻机产业影响有限，它需要整个供应链共同努力才能实现光刻机的量产，而一家非光刻机产业链的企业提出的光刻机专利恐怕影响就更为有限了