国产的光刻机已形成了一条完整的产业链条,成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体,双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业研发成功,如今国内企业在光线折射技术方面的突破,无疑将补上最后的短板,期待国产光刻机的量产
光线折射技术就是光刻机的核心技术之一,从90nm工艺以来,DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源,而EUV光源则是13.5nm,通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线,从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13.5nm光线实现7nm至2nm的工艺,而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术