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光刻机技术参数

如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，首台交付时间就在明年

一旦我国光刻机被研制出来，那么ASML的市场就会被严重挤压

第三就是DUV光刻机对美国技术依赖较低

因为技术依赖程度比较低，所以ASML想卖DUV光刻机给中国，美方根本阻止不了

为了能尽快解决芯片发展受限的情况，国内的企业也在不断发力，为的就是能尽快解决国产光刻机和芯片“卡脖子”的问题

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

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ASML为何拒绝美方向华禁售要求?

一直都蛮喜欢先锋，在华硕和先锋两个品牌面前纠结了好久，最后还是选择了先锋，读书的时候就是只用先锋，现在还是选择先锋，质感非常不错哦，小日本的东西还是不错的！便携式给客户刻录碟片非常方便！给京东一个大大的好评！赞！

先锋的光驱，一直都很信赖，以前读书的时候配的电脑的光驱就是先锋，到现在20年过去了，还能用，所以这次依然决然选择先锋。作为光驱的行业领导者和老品牌，果然不负所望，读盘速度快，低音甚至无音，轻薄程度刚好，外形外观简约大方，产品包装和物流包装双重保护，产品包装严实，非常好！

而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA

蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0