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光刻机_雕刻机_曝光系统

中兴事件光刻机,制造光刻机为何这么难

曾有美国教授指出,如果建造原子弹难度是1,那么中国造光刻机的难度是10,因此有不少人发出疑问,原子弹和光刻机到底哪个更难造?甚至有人说,为什么我们把原子弹都造出来了,为何还造不出光刻机呢?这要说,这两者根本不具备可比性,以目前的技术来说,我们建造原子弹,自然已经不具备难度了,可是能否认原子弹是尖端技术吗?就在几十年前,更是世界最尖端技术的存在,我们建造出第一枚原子弹不难吗?科学家们,用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹,能不难吗?难,只是以目前的技术来说,再看过去,难度好似降低了

中兴事件光刻机,为什么说

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无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求

终端市场推动了成熟制程的产品越来越多,比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等,成熟制程市场空间不断增长

不过有一个坏消息就是, 美国正在向ASML施压,希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国,而这相比于EUV极紫外光刻机,所造成的影响将更为严重

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