1961年,美国GCA公司成功制造出第一台接触式光刻机,再加上新中国建立初期,美国、英国等17个国家就成立了国际巴黎统筹委员会,主要是为了限制成员国向发展中国家出口物资和高新技术,中国也在封禁的行列之中
此时的中国就已经意识到了其重要性,快速向半导体产业进军
恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识和经验,进一步促使中国半导体的产业得到光速发展
2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外,西方国家再次禁运,导致无法量产