滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，成本相对低廉，X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多，加上俄罗斯具有雄厚的工业基础，可以一探究竟

光刻机主要分为哪些部分呢？其实主要是双工件台、光学系统、物镜系统、控制软件，让我们看看国内在这些方面都有哪些突破呢？双工件台由华卓精科负责，华卓精科成功研发超精密磁浮双工件台系统，打破ASML垄断，使中国成为全世界第二个掌握该项技术的国家

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面对美国公布的一系列针对中国半导体产业的最新出口管制措施，ASML首席财务官达森称，美国新法规对公司光刻机的出口影响是有限的，因为ASML是一家欧洲公司，其机器中使用的美国零件很少

更加需要中国长时间与美国的“拉扯”以及对外的公开表态显示，和全球其他半导体行业企业一样，ASML不想因为政治原因放弃在中国的巨大利益