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关于光刻机中国买得到光刻机

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心当时买的时候还在犹豫价格，买来之后一点都不后悔，而且物流还快，可以入手

读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

质量很好，很好用，值得购买，会继续光顾，物流很给力。使用非常方便，刻录非常容易，效果非常不错，很好用

除此之外，世界知名半导体品牌如三星、英特尔等都在中国市场有产能布局

因此，就如同ASML公司的CEO所言，“需要深刻认识到，中国在全球半导体行业中举足轻重，尤其是在主流半导体领域及成熟制程当中”

不过根据最新的消息显示，老美方面计划将DUV光刻机也纳入范围当中

此前在EUV光刻机上，ASML的态度比较缓和，但这次直接表示了拒绝，可以说ASML不再遮掩，摊牌了

ASML之所以会在态度上出现这样的巨大反差，出于两个方面的因素，分为外部因素和内部因素

中国买得到光刻机

而DUV光刻机的光源，我们很早就已经实现了突破，国产替代完全没有问题

所以ASML才说，DUV光刻机已经是一项成熟的技术，言下之意，如果我不卖，那我很快就会被替代

知情人士说，这个问题是在美国商务部副部长唐·格雷夫斯在5月底至6月初访问荷兰和比利时讨论供应链问题期间提出的，由于讨论是在私下进行的，这些知情人士都要求不具名

在那次出访中，格雷夫斯还参观了 ASML公司在荷兰城市费尔德霍芬的总部，并会见了该公司首席执行官Peter Wennink

知情人士说，华盛顿方面要求的重点是禁止对华销售最先进的DUV设备，即浸没式光刻机

在上述报道发布后，ASML的美国存托凭证（ADR）的跌幅扩大至8.3%，为2020年3月以来的最大盘中跌幅

国产光刻机的漫漫长征路

光刻机板块策略机会：光刻机板块情绪策略主要条件板块:光刻机;游资控盘度(游资高控盘, 游资关注);预收账款同比变化≥10%;在建工程同比≥10%;筛选条件：选股数量 (3,5);筛选因子:波段操作评分(从大到小);黑名单剔除;ST剔除;涨跌停剔除;光刻机板块情绪策略来源：阿牛智投我们按照上面的选股条件，依托大数据系统构建一个策略模型，策略表现情况如下：在2017年8月2日到2022年8月2日这五年时间里，策略年化收益能够达到24.89%，累计收益高达204.03%，最大回撤可以控制在27.91%，风险回报率达到1.00；而光刻机板块在这段时间里累计上涨了90.56%，上证指数更是累计下跌3.01%；策略表现在跑赢大盘的同时，也远远好于光刻机板块本身的上涨幅度