但是这么多重点,主要应该抓哪些呢?最终四个国际上发展很快,而我国还处于空白的领域,成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”,其中之一,便是半导体
1961 年,美国GCA 公司制造出了第一台接触式光刻机
关于我国最早的光刻机,有一种说法是1966年,中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作,研制成功我国第一台65型接触式光刻机
参考文献:1.中国曾经的光刻机研发与徐端颐,章正远2.国产光刻机五十年:星星之火,可以燎原?陈辰3.中国芯酸往事:熬过多少苦难,才能实现追赶和超越?戴老板4.中国科学院109厂阶段(1958-1986年)之二,中国科学院微电子研究所5.【中国科学报】为祖国绘制科技蓝图——中国科学院学部成立60周年特别报道之一,丁佳6.GK—3型半自动光刻机工作原理及性能分析,刘仲华7.光刻机座谈会在江苏吴县召开,半导体设备8.我国自行设计制造的 KG-3 型半自动光刻机在沪通过鉴定,徐鑫培9.光刻技术六十年,陈宝钦THE END