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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机的艰难往事张建华上海大学光刻机

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虽然基础薄弱、一切从零开始,但是在无数先辈的日夜努力之下,中国光刻机还是赢得了一个比较好的起点

真正尴尬的是,虽然有了国产光刻机,但是科研成果不代表批量化生产的能力产业化一直停滞不前

1977年7月,人民大会堂举行的科教工作者座谈会上,半导体灵魂人物王守武直言:“全国共有600多家半导体生产工厂,其一年生产的集成电路总量,只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一

2016 年,上海微电子90nm光刻机实现量产,华卓精科成功研制出两套双工作台样机,成为继阿斯麦之后,世界上第二家掌握这项技术的企业

至此,国产光刻机虽然还没有完全走出困境,但是经过20多年的艰难追赶,中国的光刻机乃至整个芯片产业,在吸取了之前的发展教训后,总算逐渐开花结果

为了摆脱困境,1956年国家成立科学规划小组,集中600多位科学家,开始编制《十二年科学技术发展规划》

这是新中国成立以来第一科技规划,提出了57项重大科学技术任务、616个中心问题,规划初步完成时,资料多达600万字

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但是这么多重点,主要应该抓哪些呢?最终四个国际上发展很快,而我国还处于空白领域,成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”,其中之一,便是半导体

1961 年,美国GCA 公司制造出第一台接触式光刻机

关于我国最早的光刻机,有一种说法是1966年,中国科学院电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作,研制成功我国第一台65型接触式光刻机

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”2逆境改革开放之后,全国兴起了引进外国设备的热潮,半导体产业开始受到猛烈的外部冲击

尽管742厂的技术引进大获成功,但从整体来看,芯片产业出现了重复引进和过于分散的问题

在扩大对外开放的背景下,“造不如买”的思潮迅速蔓延全国

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