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High-NA EUV 是下一代光刻设备，与现有的 EUV 光刻设备相比，可以雕刻出更精细的电路，其被认为是一个改变游戏规则的设备，将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家

High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元（约 25.85 亿元人民币），是现有 EUV 光刻设备的两倍

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再者，半导体产业早就全球化了，荷兰能造出最先进的光刻机是不假，可该领域约九成的关键原材料，都需要对华进口，并且短期内找不到替代者

换言之，两国是有能力互相“卡脖子”的 ，不存在谁虚谁，如果荷兰非要走极端的话，我们出手反制时，也能让他们感觉到疼

全世界最大的半导体市场就在中国，荷兰自然不会放着赚钱的生意不做，美国总喜欢对盟友提各种苛刻的要求，结果自己又拿不出什么筹码，如此一来，又能有几个国家乖乖听话呢?而且正如荷兰外贸大臣所说，他们已经对华实施了限制，比如阿斯麦公司最先进的EUV光刻机，就不被允许向中国出口

中兴绕过光刻机

此外，再看光刻机的研发技术，可以说，每一个部位都需要做到极致才可以，比方说，如果想要制造出1nm的芯片，那么，就相当于是一根头发丝的五千分之一那么小，而如今，国际上已经开始生产3nm的芯片了，而国产芯片最快有望在2023年的时候，才可以实现14nm的量产，从这里可以看出，我国在技术上是存在多大的差距

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阿斯麦称:中国不可能造出顶级光刻机

在政策的大力扶持下，国内的光刻机厂家当前的人才、市场、利润相比以前均有很大提升

禁售反而为国内市场培局竞争真空环境

在目前来看，上海微电子于今年通过了28纳米光刻机的技术检测和认证

国内企业和各科研单位对光刻机、EDA软件、光刻机胶等设备和材料进行了攻克，破局的拐点隐现，不过，因为ASML的断供，国内芯片市场需求又非常庞大，国内光刻机研发进展要提速了

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