当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星,它们目前推进的最先进工艺为3nm,然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期,这已导致苹果放弃了3nm,迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E
ASML哀叹
读盘速度:没有具体的数据,反正挺快的。 读盘声音:很安静,试刻录了一个音乐CD盘,写入很快,放到音响上,播放没有问题。 稳定性能:用了很多个先锋了,质量信得过。旧的因为接口不同,所以买了个新的。
当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星,它们目前推进的最先进工艺为3nm,然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期,这已导致苹果放弃了3nm,迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E
读盘速度:没有具体的数据,反正挺快的。 读盘声音:很安静,试刻录了一个音乐CD盘,写入很快,放到音响上,播放没有问题。 稳定性能:用了很多个先锋了,质量信得过。旧的因为接口不同,所以买了个新的。
ASML公司的极紫外光光刻机价值2亿欧元光刻技术起源于印刷技术中的照相制版术,所以光刻机就像是一个性能夸张的单反相机,将层次光掩膜版上的图形进行缩小,缩小的比例高达百万倍,然后再将其进行制造
它能够将光掩版上设计好的集成电路图形,通过光线的曝光印到光感材料上
这个想法确实很不错,而且国家的智囊团应该早都这么想过了,那么,为什么“高端国产光刻机”却迟迟没有动静呢?中国何时才能造出高端国产光刻机,避免芯片制造陷入困境?我国造光刻机的困境何在?世界的光刻机市场上有多个国家同台竞技,主要的品牌有ASML、Nikon、Canon、ultratech等等,但是要论高端光刻机,就只剩下ASML一家独大了
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