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后者的DUV光刻机则处于可以销售的状态，其原因一方面是国内的光刻机制造厂商同样能够制造出45nm的DUV光刻机并正在攻关更新进制程的DUV光刻机，禁售意义不大；另一方面则是国内作为全球重要的芯片制造基地之一，确保对国内芯片厂商的DUV光刻机供货实际上也是缓解全球芯片不足的重要举措

ASML发出正式警告:限制向大陆出售光刻机将重创全球芯片产业链

提到中国的光刻机时候，都会谈到上海微电子，然而上海微电子类似于ASML，它自身只能负责部分元件的制造，还得大量外购光刻机元件，最终由它组装成光刻机，正是由于产业链的发展难度大，导致了国内的光刻机在追赶ASML过程中困难重重

收到就试了一下，稳得一批啊，声音也很小。读盘速度：挺快读盘声音：挺小稳定性能：很稳轻薄程度：刚好外形外观：美丽产品包装：简单安全

读盘速度：非常不错！ 读盘声音：声音小！ 产品包装：包装不错！ 外形外观：外观好看！ 稳定性能：稳定好！ 轻薄程度：合适！

供应商遍布全球

读盘速度：很快 读盘声音：很轻 稳定性能：很好 轻薄程度：超薄的 外形外观：大气 产品包装：严谨

光刻机到底是什么呢？光刻机其实是集成电路制造中的一个核心设备，它涉及的高科技领域很多，比如系统集成、精密光学、精密运动、高精度微环境控制等都与其有关，技术含量非比寻常

或许也正是因为这样，光刻机一度被誉为是人类20世纪的发明奇迹之一，属于集成电路产业皇冠上的“宝贵明珠”

彼时ASML透露，该公司在中国的业务布局包括14个办公室，11个仓储物流中心，2处研发中心，1个培训中心和1个维修中心，拥有1400多名员工

而本次该公司向观察者网披露的数据显示，ASML在中国设有15个办事处、11个仓储物流中心、3个开发中心，1个培训中心以及1个维修中心，员工人数超过1500人

读盘速度：读盘很快，速度很美，相当不错 读盘声音：很安静，振动也很小，不错！ 稳定性能：长时间使用，经常用，能稳定运行两年多，前一个也是这一款！ 轻薄程度：台式机用，厚度固定了，这个无所谓了！ 外形外观：外形就那样，台式机光驱没有啥特别的外形！ 产品包装：包装很好，外面是个纸箱，里面是商品的包装，有减震

帮同事买的，品质一流，狠满意的一次购物。读盘能力强，噪音小，读取速度快，刻录时间和刻录质量稳定，同事都说好。包装完整，物流非常快，超级赞！！

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研发光刻机，是一个绝对意义上的跨国工程

光驱很漂亮，启动的声音很小，弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度：很快读盘声音：声音小，几乎听不到产品包装：精美

二、前途依旧渺茫因为光刻机是不少高科技体现的一个整体，所以当一方面有所缺失，那么对于光刻机来说都是致命的，这要求不光在光刻机的硬件上要取得成功，在其软件上也不能落后

俄罗斯因为长年电子工业落后，所以在软件发展上也非常缓慢，于是俄罗斯今后即便研制出了成功的光刻机，想要将它用于生产也是一件非常困难的事，所以俄罗斯能否在未来成功研制出7nm光刻机，这还必须打上一个疑问号

ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展，可能成为它的竞争对手，中国制造此前的事实一再证明，只要中国取得突破的技术，那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多，在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手

EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大，在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候，DUV光刻机量产自然就更没难度了

中国在光刻机技术方面的快速突破，已让ASML感到担忧，事实上此前在美国的诸多压力下，ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展，中国迟早能解决光刻机问题

据悉，目前包括韩国三星、SK海力士以美国的英特尔等半导体产业巨头，均在中国有工厂

如果禁止向中国出口DUV深紫外光刻机，中国大陆晶圆代工厂以及海外国家在华企业的产能，必然会受到限制，届时全球半导体供应链肯定紊乱

过去两年时间，受新冠疫情影响，全球半导体供应链一直不太稳定，也因此陷入了半导体供应荒，芯片价格暴涨给许多行业的生产经营带来了不同程度的影响

而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的

而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm

佳能一直非常重视NIL纳米压印技术，甚至在2021年就造出了机器，被铠侠用于NAND闪存制造中，只不过目前精度还不太够，不能替代EUV光刻机

但在NIL技术上，佳能的专利最多，技术最成熟、最先进，很明显，佳能就押注这个技术了

三种EUV光刻机替代方案

这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段

而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术