滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

据悉日本已成功突破5nm工艺，这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的，此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺，似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵，台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题，甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

2019年全球光刻机市场分析

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

当初我们原子弹制造是从0到1的跨越，万丈高楼平地起，而光刻机要说，其实是从1到2的进程，只是目前我们没有办法研制高端光刻机，因此我们要做的，就是将高端技术走向高精端，只是这个过程并不容易了

可是目前我们所能够知道的，高端的光刻机，比原子弹要极为稀有，这是不得不面对的事实

曾有美国教授指出，如果建造原子弹难度是1，那么中国造光刻机的难度是10，因此有不少人发出疑问，原子弹和光刻机到底哪个更难造？甚至有人说，为什么我们把原子弹都造出来了，为何还造不出光刻机呢？这要说，这两者根本不具备可比性，以目前的技术来说，我们建造原子弹，自然已经不具备难度了，可是能否认原子弹是尖端技术吗？就在几十年前，更是世界最尖端技术的存在，我们建造出第一枚原子弹不难吗？科学家们，用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹，能不难吗？难，只是以目前的技术来说，再看过去，难度好似降低了

为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯片的性能仍在稳步提升，有的是从架构上找到了创新，有的选择了改善带宽之类的性能

但我们也都能看出，其中有一部分产品选择了走大规模的路线，比如苹果的M1 Ultra

这种方式虽然增加了功耗，但对于那些对功耗并不敏感的产品来说，似乎也是可行的一种思路，那么我们真的有必要用到更贵的高NA EUV光刻机进一步提升密度吗？这个问题的答案其实不言而喻了，英特尔、台积电等晶圆厂提前预订的高NA EUV光刻机订单已经证明了它的重要性

这种非曝光成像模式允许自动识别硅晶格，因此可以自动识别像素在表面上的位置

这种 Lattice Lock 过程自动保持尖端定位（以及因此光刻）准确

数字矢量光刻ZyvexLitho1 使用氢去钝化光刻从Si(100) 2×1 二聚体列（dimer row）重建表面去除氢（H）原子

实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！

读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。

大品牌，质量很好，性价比很高，安装使用方便，读写速度很快，光盘质量好的时候声音很好，使用有的光盘时候有较大声音。

非常好，但刻录只有18速？，而且噪音很大，不过其他很好。不错的用来刻录CD机用的。很安静。没有噪音。稳定可靠。

HDL使用附着在硅表面的单层H原子作为非常薄的抗蚀剂层，并使用电子刺激解吸在抗蚀剂中创建图案

传统EBL使用大型昂贵的电子光学系统和非常高的能量(200Kev)来实现小光斑尺寸；但是高能电子（获得小光斑尺寸所必需的）分散在传统EBL使用的聚合物抗蚀剂中，并分散沉积的能量，从而形成更大的结构

先锋内置DⅤD刻录光驱读盘很稳定，声音还好，使用方便。可以播放4k电影，可以刻录4k电影，功能强大，强烈推荐大家购买。

而且，这与世界上影响力最大的国家——美国，也是相关联的

更何况，为了保证自己的垄断地位，荷兰ASML公司对其旗下的产品也施加了多层保护，制定了严格的采购程序，甚至还将其上升到了荷兰当地政府法律的层面

其中明确表示了进口企业不得侵犯该公司的知识产权， 其中包括逆向开发，因此以其他公司的产品来助力我国技术的诞生这一道路是走不通的了

随着技术的进步，未来EBL电子束光刻面临的一些难题或许也有可能会被解决

关于ZyvexZyvex Corporation 由 Jim Von Ehr 于 1997 年创立，旨在开发和商业化原子精密制造 (APM) 技术，以制造具有原子精密度的产品

之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

如果开发得当，APM 允许灵活制造各种产品，从设计材料到超级计算机再到先进的医疗设备

物有所值，买回来看包装就很喜欢，推荐此产品，欢迎大家来买他家的产品。 读盘速度：很快， 读盘声音：声音不是很大 稳定性能：刻录光盘很舒适 外形外观：很漂亮，用着合适。 轻薄程度：很薄

有句话说，芯片是微观制造工艺的极限

那么将这个极限制造出来的光刻机，有多难非常明显了，而每一纳米的突破，都是极其难得，阿斯麦尔温彼得甚至还表示，中国不太可能独立造出顶尖光刻机

要说最难的就是这3个点了

1、光源我们知道，目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了，而其使用的就是极紫外线，能够将光刻技术扩展到32nm以下

做工很好，十年前买的先锋刻录机有点光头老化，再买一个用，完美，非常满意！京东物流就不用说了，快！光驱手感好，整体轻薄，使用时声音小，速度快，非常好用的一款！

HDL使用附着在硅表面的单层H原子作为非常薄的抗蚀剂层，并使用电子刺激解吸在抗蚀剂中创建图案

传统EBL使用大型昂贵的电子光学系统和非常高的能量(200Kev)来实现小光斑尺寸；但是高能电子（获得小光斑尺寸所必需的）分散在传统EBL使用的聚合物抗蚀剂中，并分散沉积的能量，从而形成更大的结构

0.768nm!美国造出全球最高分辨率光刻机:现在下单

本来准备装电脑上的，结果发现机箱没有光驱位，索性加一个光驱盒，拿来当外置光驱，没想到速度还挺快的，声音很小，比较安静

曾有美国教授指出，如果建造原子弹难度是1，那么中国造光刻机的难度是10，因此有不少人发出疑问，原子弹和光刻机到底哪个更难造？甚至有人说，为什么我们把原子弹都造出来了，为何还造不出光刻机呢？这要说，这两者根本不具备可比性，以目前的技术来说，我们建造原子弹，自然已经不具备难度了，可是能否认原子弹是尖端技术吗？就在几十年前，更是世界最尖端技术的存在，我们建造出第一枚原子弹不难吗？科学家们，用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹，能不难吗？难，只是以目前的技术来说，再看过去，难度好似降低了