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那么将这个极限制造出来的光刻机,有多难非常明显了,而每一纳米的突破,都是极其难得,阿斯麦尔温彼得甚至还表示,中国不太可能独立造出顶尖光刻机
要说最难的就是这3个点了
1、光源我们知道,目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了,而其使用的就是极紫外线,能够将光刻技术扩展到32nm以下
以前基本没有认真评价过不知道浪费了多少积 分,这个福利真好真好,妥妥每次都写100多字,这 是第N次在网上买东西,棒棒棒!很厉害,好便 宜,而且质量很不错,物美价廉买得放心,用得开 心,现在购物已经是每天的必做的事了,买买买根 本停不下来,东西品种多,分类清晰,超级划算而 且方便,主要是还实惠,包装设计很好,并且没有 损坏,希望卖家可以一直保持】,这是一个好评模 版,因为如果每次要长篇写好评也是会耽误好多时 间和精力的,希望能帮到要写详细评论的亲们。
曾有美国教授指出,如果建造原子弹难度是1,那么中国造光刻机的难度是10,因此有不少人发出疑问,原子弹和光刻机到底哪个更难造?甚至有人说,为什么我们把原子弹都造出来了,为何还造不出光刻机呢?这要说,这两者根本不具备可比性,以目前的技术来说,我们建造原子弹,自然已经不具备难度了,可是能否认原子弹是尖端技术吗?就在几十年前,更是世界最尖端技术的存在,我们建造出第一枚原子弹不难吗?科学家们,用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹,能不难吗?难,只是以目前的技术来说,再看过去,难度好似降低了
而ASML采用的则是一种激光干涉仪,精度非常高,有着位移测量的能力,可以实现出纳米级的同步运动,非常精密,这样的技术就是美国也没有办法做到
可见光刻机的建造难度极大,而其的建造,也代表着现如今最完整的高尖端工业体系,代表的是一个国家真正的科技力量,和真正的工业实力,因此是不容小觑的
然而在EUV光刻机面世之前,一直都是使用的DUV光刻机,使用的是短波紫外线,突破到极紫外线,一共花费了20年的时间才完成,可见对于光源的选择使用,其的难度是非常大的,没有捷径可走
2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具,然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术
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很好很满意,读碟流畅,之前买的华硕挺挑碟的,正版碟都读不出,这款棒棒的,刻录倒不常用,用移动硬盘多,暂时没有测试
挺好的,和想象中一样,随意搭都很好看,满意!实用性和颜值都非常的赞,我很喜欢,还会再来买的宝贝做工真的非常精细,细节真的棒,爱了爱了
全球三大光刻机
京东快递就是快,昨天晚上下单,第二天上午就到货了,已经安好了,试了一下非常满意。读盘很安静,几乎没有噪音。附送的软件很实用
EUV多层膜反射镜是光学系统当中重要的元件,有了这个反射镜的存在,才能够时间EUV波段的高反射率,且精度要求是非常高,精度越高的东西越难造,显然这个反射镜就不是一个容易造的
3、工作台在芯片制造当中,需要工作台进行配合,而在芯片制造当中,工作台移动来帮助芯片的纹路刻蚀,因此工作台移动的精度越高,那么制作出来的芯片精度也就越高
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