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中国除了继续研发光刻机之外,还在研发无需光刻机的芯片制造工艺,这方面已有日本做出示范,日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用,证明了无需光刻机也能生产芯片,而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产,如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾
这些消息都无不让ASML如鲠在喉,所以美国方面一再施加压力,但是ASML却一直都认为限制DUV光刻机没有多大意义,DUV光刻机已是多年前就已成熟的技术,中国在DUV光刻机方面的进展将会更快,如今中国在EUV光刻机技术上的进展如此迅速,显示出中国不仅在DUV光刻机技术方面进展迅速,在更先进的EUV光刻机技术方面同样很快