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近日国内光刻机产业链的企业之一,传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果,国产EUV光刻机已取得了重大进展,或许数年后国产EUV光刻机就将量产,这正让ASML后悔莫及
ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展,可能成为它的竞争对手,中国制造此前的事实一再证明,只要中国取得突破的技术,那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多,在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手
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已拿下20多项专利
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中国在光刻机方面的技术迅速突破,在于此前具有一定的基础,事实上在1990年代的时候,我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大,只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大,以及当时发展芯片产业时机未到,国产的光刻机产业链逐渐凋零,如今经过近十年时间的努力,国内光刻机产业链再度打通也就不在话下
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光刻机难还是飞机发动机难
中国除了继续研发光刻机之外,还在研发无需光刻机的芯片制造工艺,这方面已有日本做出示范,日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用,证明了无需光刻机也能生产芯片,而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产,如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾
EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大,在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候,DUV光刻机量产自然就更没难度了
中国在光刻机技术方面的快速突破,已让ASML感到担忧,事实上此前在美国的诸多压力下,ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展,中国迟早能解决光刻机问题