EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大,在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候,DUV光刻机量产自然就更没难度了
中国在光刻机技术方面的快速突破,已让ASML感到担忧,事实上此前在美国的诸多压力下,ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展,中国迟早能解决光刻机问题
近日国内光刻机产业链的企业之一,传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果,国产EUV光刻机已取得了重大进展,或许数年后国产EUV光刻机就将量产,这正让ASML后悔莫及