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光刻机_雕刻机_曝光系统

尴尬:去年全球出货478台前道光刻机，光刻机与口罩2023-03-01 00:20:37

收到货好几天了，在用这款writer，感觉还不错，已经刻了一张，性能不错，而且方便携带，包装还好，物美价廉的好商品！

而后道光刻机，同是用于芯片制造的后道工序，比如芯片封装等，另外还有光刻胶制造也需要后道光刻机等

相对而言，前道光刻机更难，更为重要

同时对精度要求也越高，所以前道光刻机又分EUV、DUV、UV光刻机

而DUV光刻机按照精度，又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；ArF Dry用于65nm，KrF用于180nm等等

作者:admin | 分类:雕刻机 | 浏览:60 | 评论:0

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