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就在美方新规刚出不久，ASML加大了光刻机的产能，并且计划在2026年之前，将EUV光刻机的年产能提升至90台，DUV光刻机提升至600台

另外，它还表示自己是一家欧洲企业，理应有自由出货的权力，不应完全遵从美国的要求，可见ASML为了销售额，并不愿意放弃中国这个大市场

所以对于ASML的DUV光刻机来说，我国是非常大的一个市场，也就我国还有订购DUV光刻机的空间，但对于更先进EUV光刻机，却绝口不提

第二就是不想给自己培养竞争对手，要知道芯片受到限制后，我国也在芯片产业上不断发力实现突破

用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构

日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展

根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现

照例给予好评！给自己给朋友同事亲戚装机多台，常选LG和先锋等品牌光驱。对这两个品牌光驱（刻录机）充满信赖。现在光驱（刻录机）使用频率越来越低，装机后安装原版随机驱动还是光驱（刻录机）比较方便。现在向法院提交视频、图片，也需要刻制光盘，还的满足职业需求。现在的价格常搞活动，也很便宜。

给别人组装新机安装的刻录机，这次买配件全是在京东六一八做活动时买的价格很实惠。当然先锋刻录机的质量也是杠杠的，使用效果让人很满意，它是我给别人组装新机的不二之选。

外包装没有温謦提示封条。读盘还快，刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整，安装方便，装好以后读盘速度很快，很不错的一个光驱，值得购买

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

在第一季度，我们收到了多份 EXE:5200 系统的订单

我们这个月还收到额外的 EXE:5200 订单

我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的高 NA 订单

EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统，将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展

另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

收到就试了一下，稳得一批啊，声音也很小。读盘速度：挺快读盘声音：挺小稳定性能：很稳轻薄程度：刚好外形外观：美丽产品包装：简单安全

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖，其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此，它们甚至在挖ASML的根

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺，在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了，用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元，而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

收到货好几天了，在用这款writer，感觉还不错，已经刻了一张，性能不错，而且方便携带，包装还好，物美价廉的好商品！

京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。

使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，借给别人刻盘过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺，在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了，用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元，而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

首先打开包装袋里边东西完好，然后物流很快，加上商品出厂日期是7月全新的，配件，赠品齐全，这次购物，我对京东各方面都很满意

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖，其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此，它们甚至在挖ASML的根

做工很好，工作稳定，噪音小，读光盘快速静音，刻录光盘可靠性高。有说明书，附带安装螺丝。外包装是纸箱，无挤压变形。京东物流很快，快递小哥直接送到家。

物流很快，买完第二天就到了，现在已经刻了快50张光盘，无一失败，就是不知道能用多久，希望能多用几年

是正品，速度快，刻盘稳定，稳定才是王道，不会坏盘，很满意。买给客户的，对方很满意，刻录速度比较快，声音小，很实用

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

ASML发出正式警告:限制向大陆出售光刻机将重创全球芯片产业链

后者的DUV光刻机则处于可以销售的状态，其原因一方面是国内的光刻机制造厂商同样能够制造出45nm的DUV光刻机并正在攻关更新进制程的DUV光刻机，禁售意义不大；另一方面则是国内作为全球重要的芯片制造基地之一，确保对国内芯片厂商的DUV光刻机供货实际上也是缓解全球芯片不足的重要举措

光刻机是芯片制造中必不可少的核心设备，简单来说可以分为用于7nm及更先进制程的EUV光刻机和用于10nm~130nm的DUV光刻机

3nm工艺尚且面临诸多困难，更别谈难度更大的2nm工艺了，2nm工艺能否如期在2025年量产存在很大的不确定性，再有就是2nm工艺需要采用ASML第二代EUV光刻机，而第二代EUV光刻机将比目前的EUV光刻机贵两倍多，工艺生产的耗电成本也是倍速上涨，性能提升和成本未必达到经济成本

在硅基芯片逐渐接近极限的时候，量子芯片技术已开始得到加速发展，美国的IBM、谷歌都已宣布量子技术得到突破，IBM更已推出量子芯片，IBM已推出两代量子芯片Eagle chip和Osprey chip，预计明年就会推出采用量子芯片的超级计算机，量子芯片商用化的时代加速到来