目前全球能够制造光刻机的厂商,真不多,可能也就4家,分别是ASML、日本佳能、日本尼康,还有上海微电子
那么这4家各自在市场表现如何?近日,有机构统计了2021年全球前道光刻机的销售情况,一共是478台(注:数据真假未知,但以机构的知名数,估计不会有假)
日本厂商则在低端的KrF、UV(i-line)上有一定优势,特别是最低端的UV光刻机上,占了大头
可见,整个前道光刻机市场,还是ASML说了算,日本厂商,拿走的是ASML看不上的低端市场,而国产连低端市场都抢不到
目前全球能够制造光刻机的厂商,真不多,可能也就4家,分别是ASML、日本佳能、日本尼康,还有上海微电子
那么这4家各自在市场表现如何?近日,有机构统计了2021年全球前道光刻机的销售情况,一共是478台(注:数据真假未知,但以机构的知名数,估计不会有假)
日本厂商则在低端的KrF、UV(i-line)上有一定优势,特别是最低端的UV光刻机上,占了大头
可见,整个前道光刻机市场,还是ASML说了算,日本厂商,拿走的是ASML看不上的低端市场,而国产连低端市场都抢不到
王丽萍研究生在读时,于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文,涉及两镜头微缩投影系统:《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中,给出了一套MET工具的光学设计图,其数值孔径NA0.3,分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
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