因此,阿斯麦尚不能违反美国方面要求向中国供应该设备
7-14纳米机会阿斯麦的DUV光刻机能够覆盖7-14纳米的芯片,且该公司目前100%地垄断了能够制造10纳米以下芯片的光核机设备
美国在出台政策限制中国获取高尖端半导体设备的同时,仍担心阿斯麦通过DUV让中国能够发展7-14纳米级别的芯片
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而除了阿斯麦,芯片制造设备市场中还有美国同行应用材料(Applied Materials Inc.)、泛林集团(Lam Research Corp. )和科磊( KLA Corp.),以及日本公司东京电子(Tokyo Electron Ltd.)