7-14纳米机会阿斯麦的DUV光刻机能够覆盖7-14纳米的芯片，且该公司目前100%地垄断了能够制造10纳米以下芯片的光核机设备
美国在出台政策限制中国获取高尖端半导体设备的同时，仍担心阿斯麦通过DUV让中国能够发展7-14纳米级别的芯片
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而除了阿斯麦，芯片制造设备市场中还有美国同行应用材料（Applied Materials Inc.）、泛林集团（Lam Research Corp. ）和科磊（ KLA Corp.），以及日本公司东京电子（Tokyo Electron Ltd.）
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而作为芯片领域关键一环——EUV和DUV光刻机的生产国，荷兰的态度无疑是相当重要
不过荷兰政府官员近日表示，将捍卫自己的经济利益，拒绝听从美国方面提出的对中国禁售半导体设备请求
荷兰外贸与发展合作大臣Liesje Schreinemacher周二表示，在与美国等其他国家的贸易谈判中，荷兰将就阿斯麦公司（ASML）向中国销售芯片设备的事宜做出自己的决定
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据媒体称，美国官员近阶段一直在向荷兰政府施压，要求其禁止向中国销售浸没式光刻机，这也是阿斯麦DUV光刻机中最先进的设备
包括商务部副部长Alan Estevez在内的美国高级官员代表团，将于本月前往荷兰讨论相关的出口管制问题，但据媒体预计本次会谈不会立刻达成协议
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硬抗美国施压!荷外贸大臣:对华出售光刻机 荷兰...光机电一体技术与光刻机
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此外，美国和欧盟也将就一些有争议的话题进行磋商，如美国的通胀削减法案中对电动车补贴的规定
Schreinemacher认为，如果把DUV放在欧盟的贸易条件里与美国进行谈判，最后结果相当于把DUV送给美国，这会让荷兰的境况变得更糟