滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

回顾中国光刻机过去60年间的发展，前20年，在科研人员夜以继日的攻关下，中美光刻机差距被缩短到了7年，中间十几年，因为种种原因，国内外的光刻机差距越拉越大，直到2000年后，面对断供的威胁，以及与国外的恐怖差距，国产光刻机再次开始奋力追赶

收到后只用来放DVD，很好用。运行比较安静。希望耐用。用过才知道，和某品牌同价位的确实不一样，各方面都超出预期，还是非常过硬的东西，必须好评！

1980年，无锡的江南无线电器材厂（724厂）引进日本东芝的电视机集成电路5微米全套产线，这是国内第一次从国外引进集成电路生产线，短短几年，厂里的芯片产量就达到了3000万块，742厂一跃成为我国产能最大的集成电路生产厂

国产光刻机的艰难往事国产9nm光刻机样机

为了摆脱困境，1956年国家成立科学规划小组，集中600多位科学家，开始编制《十二年科学技术发展规划》

这是新中国成立以来第一个科技规划，提出了57项重大科学技术任务、616个中心问题，规划初步完成时，资料多达600万字

先锋刻录机，15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错！14年的老电脑！就机箱和光驱没有换过啦！这次还换先锋的光驱！物美价廉

送货快，电脑城那边便宜，读盘速度刻盘速度，很快，感觉很有威力，前前后后一共买过三个，都是给单位买的，原来的都不读盘了。

这款蓝光刻录机价格太硬了，我等了一年终于降价了，赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机，用了十几年了还在用，刻录杠杠的，没一点问题，声音特别小，性能稳定，外观大气，读写速度都很快，质量绝对硬！！

在政策的大力支持下，芯片行业进入了海归创业和民企崛起的时代，国产光刻机事业再次艰难起步

此时，国际上光刻光源已经被困在193nm长达20年，最终台积电在2002年提出了浸入式光刻方案，阿斯麦也凭此击败尼康，成为新一代光刻机霸主

回顾中国光刻机过去60年间的发展，前20年，在科研人员夜以继日的攻关下，中美光刻机差距被缩短到了7年，中间十几年，因为种种原因，国内外的光刻机差距越拉越大，直到2000年后，面对断供的威胁，以及与国外的恐怖差距，国产光刻机再次开始奋力追赶

读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。

　　向来崇尚市场经济、自由贸易的美国政府，此次索性自打自脸，向荷兰施压，并获得了成功，包括中芯国际在内的中国芯片制造企业，也因此被卡住了脖子

　　2021年11月9日，第三届进出口博览会上，全球光刻机龙头ASML副总裁、中国区总裁沈波对媒体表示：公司对向中国出口光刻机持开放态度

一次很好的购物体验，服务周到，物流快速，配送也很周到，态度也很好，好评！很好看，制作工艺很精美，材质也很好！给个赞！很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心

就在形势一片向好时，美国开始了对中国芯片产业的围堵，十几年前的担忧最终成为了现实

如今中国的芯片产业链与国外虽然仍有差距，但与之前不同的是，国家政策持续发力，资金支持到位，工程师队伍不断壮大，产业链的各个环节也已今非昔比

在政策的大力支持下，芯片行业进入了海归创业和民企崛起的时代，国产光刻机事业再次艰难起步

读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。

外形外观：精美 读盘声音：静音 稳定性能：稳定 轻薄程度：超薄 产品包装：精美 读盘速度：快

回顾中国光刻机过去60年间的发展，前20年，在科研人员夜以继日的攻关下，中美光刻机差距被缩短到了7年，中间十几年，因为种种原因，国内外的光刻机差距越拉越大，直到2000年后，面对断供的威胁，以及与国外的恐怖差距，国产光刻机再次开始奋力追赶

尼康甚至从美国厂商GCA手里夺下了IBM、英特尔、AMD等一系列大客户

　　一消一涨之间，中国与世界先进水平的差距，被拉得更大了

这种差距感染了规划工作者，中国半导体行业由此开始了急进式的追赶之路

　　从1986年到1995年，国家部委先后组织了半导体领域的“三大战役”：531战略、908工程、909工程

中国自己研制光刻机

??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机，连接笔记本电脑，质量可靠非常满意，刻录机很好，收到后就安装上，就刻了一张cD盘和一张D9盘，非常不错。

但是这么多重点，主要应该抓哪些呢？最终四个国际上发展很快，而我国还处于空白的领域，成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”，其中之一，便是半导体

1961 年，美国GCA 公司制造出了第一台接触式光刻机

关于我国最早的光刻机，有一种说法是1966年，中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机

参考文献：1.中国曾经的光刻机研发与徐端颐，章正远2.国产光刻机五十年：星星之火，可以燎原？陈辰3.中国芯酸往事：熬过多少苦难，才能实现追赶和超越？戴老板4.中国科学院109厂阶段（1958－1986年）之二，中国科学院微电子研究所5.【中国科学报】为祖国绘制科技蓝图——中国科学院学部成立60周年特别报道之一，丁佳6.GK—3型半自动光刻机工作原理及性能分析，刘仲华7.光刻机座谈会在江苏吴县召开，半导体设备8.我国自行设计制造的 KG-3 型半自动光刻机在沪通过鉴定，徐鑫培9.光刻技术六十年，陈宝钦THE END

nikon光刻机i4

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

当时，日后的光刻机巨头ASML公司才刚刚诞生

　　国产光刻机有一个好的起点，但尴尬的是，因为当时国内半导体产业整体太薄弱

国产光刻机虽然研发出来，却没有很好的下游应用市场，无法真正走上市场和商业化的道路，只能停留在实验室研究阶段

尼康甚至从美国厂商GCA手里夺下了IBM、英特尔、AMD等一系列大客户

　　一消一涨之间，中国与世界先进水平的差距，被拉得更大了

这种差距感染了规划工作者，中国半导体行业由此开始了急进式的追赶之路

　　从1986年到1995年，国家部委先后组织了半导体领域的“三大战役”：531战略、908工程、909工程

光刻机探测范围

产品包装：外观小清新，保护很到位 外形外观：很经典，很商务 稳定性能：非常稳定，无故障

　　这下可捅了马蜂窝