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就在形势一片向好时,美国开始了对中国芯片产业的围堵,十几年前的担忧最终成为了现实
如今中国的芯片产业链与国外虽然仍有差距,但与之前不同的是,国家政策持续发力,资金支持到位,工程师队伍不断壮大,产业链的各个环节也已今非昔比
在政策的大力支持下,芯片行业进入了海归创业和民企崛起的时代,国产光刻机事业再次艰难起步
此时,国际上光刻光源已经被困在193nm长达20年,最终台积电在2002年提出了浸入式光刻方案,阿斯麦也凭此击败尼康,成为新一代光刻机霸主
面对今天的困境,人们可能很难想象,中国不仅曾经独立研发出光刻机,把与美国的差距缩短到只有7年,而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的
今天,我们还能做到吗?1开局新中国成立之初,百废待兴,全国科研人员加起来不过5万人,难以满足建设需要
33家单位不同程度地引进各种集成电路生产设备,累计投资约13亿元
然而引进的设备大多是落后淘汰的二手货,最终只有少数几条产线建成使用
而且当年的一份研究报告指出,引进过程中,大量引进硬件,而忽视了技术和管理,同时科研与生产结合不紧密,经费不足也是重要原因
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为了摆脱困境,1956年国家成立科学规划小组,集中600多位科学家,开始编制《十二年科学技术发展规划》
这是新中国成立以来第一个科技规划,提出了57项重大科学技术任务、616个中心问题,规划初步完成时,资料多达600万字
国产光刻机的艰难往事光刻机中国有几台
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