滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

其次，美光绕开EUV光刻机制造出了能效提升25%、存储密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM芯片，日本佳能、铠侠联手成功研制出纳米压印微影（NIL）工艺技术，将高端芯片的制造成本降低了40%左右

“国内并不缺乏优秀的芯片设计企业，芯片设计能力全球领先，只不过是国内没有能够制造高端芯片的企业罢了

”老美对华为芯片环节进行制裁后，华为创始人任正非接受央视记者采访时说出了“中国芯”的现状

众所周知，芯片制造是一项庞大的项目工程，需要使用到EUV光刻机、蚀刻机等一百多套高尖端设备，以及大量的软件和化学材料，需要集中全球半导体产业链的力量

很好的刻录机，刻录盘时声音很低，刻盘成功率高。质量不错，安装简单，稳定性也很好，读碟速度快，值得推荐

中国的目标，是要在2030年造出EUV极紫外光刻机，大家可能觉得，ASML2010年就已经开始量产光刻机，这会不会太晚了，事实上，这并不算太晚，我们通过不断地缩小所采用的光源的波长（EUV光源13.5nm），增强投影物镜的最小线条成像能力（提高数值孔径1.3）等方式，不断缩小能够加工的最小线宽

收到就试了一下，稳得一批啊，声音也很小。读盘速度：挺快读盘声音：挺小稳定性能：很稳轻薄程度：刚好外形外观：美丽产品包装：简单安全