滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：先锋存储名不虚传啊，原来用的也是先锋的，用了有10年，终于退休了 读盘声音：声音很小，几乎听不到 稳定性能：稳定性超强，刻录CD非常快，音质也超棒 轻薄程度：外置光驱吗，都一样薄厚，没有太厚的 外形外观：外观就是比原来的降了档次，原来的机器都是金属外壳，现在的是工程PVC的，更轻一些 产品包装：产品包装结实，原封装，没动过，全新

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知情人士说，这个问题是在美国商务部副部长唐·格雷夫斯在5月底至6月初访问荷兰和比利时讨论供应链问题期间提出的，由于讨论是在私下进行的，这些知情人士都要求不具名

在那次出访中，格雷夫斯还参观了 ASML公司在荷兰城市费尔德霍芬的总部，并会见了该公司首席执行官Peter Wennink

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ASML 公告还透露，公司的 EUV 高 NA 业务中，已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台

这些模块将用于初始测试和集成，这是 EXE:5000 程序的重要一步

此前据 BusinessKorea 报道，三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻设备达成了协议

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IT之家 7 月 20 日消息，光刻机巨头阿斯麦 ASML 今日公布了第二季度财务数据

用于2nm

一小时处理220片12寸的晶圆，其产能有多大？如果是苹果A16这样的芯片，一块晶圆可以切割600块左右，理论上一台这样的光刻机，一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面，ASML表示，其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元（约合20亿元人民币）

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根据中科院光电所所长，罗先刚介绍说：2012年，该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)

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其他半导体制造商的股价也在下跌，美国泛林集团（Lam Research）下跌3.6%，应用材料公司（Applied Materials）下跌2.4%

中国外交部发言人赵立坚在7月6日的例行记者会上就有关问询表示，这是美方滥用国家力量、倚仗技术霸权搞胁迫外交的又一例证

正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞