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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机的原理是照相机原理,中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

目前的顶尖芯片制造三强,台积电、三星、英特尔,通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展,获得了大量的利润,进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发,从而形成一个良性的循环

“弯道超车”党看不见这些,他们整体呼喊着“弯道超车”的“商业模式”,无非是左右国家科技投入政策,将一笔又一笔的千亿规模的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏模式中去罢了

中国古语有云~~~杀鸡取卵,饮鸩止渴,就是指得这个“弯道超车”呀

我们要警惕最近有一些MCN机构艺人胡编乱造,为芯片造假翻案,并且大肆鼓吹各种“弯道超车”、“美国芯片没人要了”、“美国半导体要失业了”

还是媲美EUV的那种,新原理光刻机

众所周知,目前芯片的制造流程中,光刻机是必不可少的设备,且从成本来看,光刻机占所有半导体设备成本的20-25%

但是大家也清楚,当前在光刻机领域,ASML是一家独大,特别是EUV光刻机,只有ASML能够生产,而在尖端一点的DUV光刻上面,也是ASML占优,佳能、尼康等品牌,主要占的是低档市场

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光刻机原理腐蚀机,ASML又要停供中国光刻机?人民日报:放弃幻想

至于老美是如何说服荷兰扩大禁售范围的,我们暂且不知

可以肯定的是,未来ASML很难向大陆市场出货DUV光刻机和EUV光刻机

那么问题来了,荷兰的妥协对国内半导体市场有什么影响?其实答案很简单,自研光刻机成了国内半导体产业链唯一的出路

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ASML又要停供中国光刻机?人民日报:放弃幻想

光刻机原理腐蚀机,国内要靠自己了

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