二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商,这就更加困难了,所以其它的光刻机企业,在EUV这个赛道上,是不太可能与ASML竞争的,除非换赛道,以另外一种技术试
目前佳能是押宝纳米压印光刻(NIL)技术,而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL),还有企业在研究直接自组装(DSA)光刻,X-射线光刻等,都是绕开EUV技术
过去的这许多年,有众多的企业都想替代ASML,比如尼康、佳能,甚至还有上海微电子,大家都在光刻机上发力,想推出EUV光刻机,甚至换一个方向,用另外的技术来实现EUV光刻机的功能,但暂时都没有成功