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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机分立器件,DUV光刻机出货新规或将迎来变数

这不管是对于我们国内市场上,还是对于ASML来说都是一个不太好的信号

只不过,现在“突破点”出现了

就在日前,有消息透露目前老美正在对日半导体进行施压,据悉是直接要求日半导体配合美限制出货的问题

至于小编为何说这是一个突破点,是因为日半导体的决定很有可能会影响到荷兰方面的协议

要知道,在美限制新规出炉之后,率先拉拢的就是荷兰和日半导体

首先是因为在尖端技术领域的突破上,美半导体和日半导体有先联合的基础

其次是,在光刻机市场上ASML是一个重点,加之日本也有光刻巨头,并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货

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