滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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在今天，国产光刻机产业链正在走向完善，在双工件台、在光源制造方面以及光学镜头方面，都有相关公司取得了突破，从光刻胶再到光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等，也都有相关的公司与产业分布

永远别那么绝对（Never say never），他们肯定会尝试的

”当地时间1月19日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）CEO温彼得（Peter Wennink）表示

光刻机是芯片制造的核心设备，也是研发难度最大的半导体设备

阿斯麦光刻机出货信息 过去几年，阿斯麦一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机

这种EUV光刻机采用最新的光学设计，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍

荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔 资料图 图源：彭博社这并非施赖纳马赫尔首次就芯片制造设备对华出口问题发声，18日接受新鹿特丹商报（NRC）采访时，她表示美国不应指望荷兰毫无异议地采纳其对华出口限制措施，“荷兰不会一比一照搬美国（对华出口）的措施”

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读盘速度：挺好的，～～～ 读盘声音：很小～～～ 稳定性能：好好 轻薄程度：方便清小 外形外观：时尚时尚 产品包装：还好啦

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

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日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

光刻机取消订单

最大程度供应中国市场

那么，话说回来，佳能是否愿意出口给中国光刻机呢？其实，小编个人认为是肯定愿意的

首先，之前美企找佳能谈过话，就是关于光刻机出口范围的问题

当时，佳能并没有答应与美企的要求和合作，并且表示将会加大对中国市场的布局，拿下更多的中国客户

大家都知道，我国的半导体产业这些年的发展速度十分之快，无论是从芯片还是从光刻机方面，我们都顺利的制造出了属于我们的“国货”

但是，我们的国货终究技术有限，目前来说我们与顶级的光刻机制造企业之间还是存在很大的差距，而我们想从国外进口，却又面临到了一个重大难题

我的外置刻录机坏了，买这个来更换，感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片，图书，每次活动都会购买一批，可以剩下很多钱，京东网自营商品让人放心，服务一流，让人满意，没有后顾之忧，正品保证！

上次买的华硕，这次买先锋的，同样品质和价格喜人，读盘能力强，声音小，读取快速，刻录时间和刻盘质量稳定，一次买了2个，单位上用的，同事用了都说可以，六一八期间促销还有卷送，总共买东西便宜了一二百，非常满意的购物体验。

如果对比现在的DUV光刻机产能，ASML相当于在三年时间里要把DUV光刻机的产能提升近三倍，我们知道，DUV光刻机是用于生产成熟工艺的设备，目前像台积电、三星、英特尔等巨头芯片代工厂，在成熟工艺上都已经很早就购置了大量DUV光刻机，那么ASML生产这么多的DUV光刻机卖给谁呢？答案已经不言而喻

很遗憾

到货拿回家就马上装上了，已经第二次买先锋牌的光驱，质量还是很好，很实用，京东快递小哥很有礼貌，服务很周到。

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佳能一直非常重视NIL纳米压印技术，甚至在2021年就造出了机器，被铠侠用于NAND闪存制造中，只不过目前精度还不太够，不能替代EUV光刻机

但在NIL技术上，佳能的专利最多，技术最成熟、最先进，很明显，佳能就押注这个技术了

一台阿斯麦的光刻机能买到上亿美元，而这家公司员工总数也不过一万六千人，其中超过六千人是研发人员

这个阿斯麦公司做生意靠的可不是垄断，而是板上钉钉的硬实力

在45纳米级别的光刻机领域，市场占有率达到80%

7纳米级别的光刻机市场则由它一家独吞，别人没这份技术，只能羡慕嫉妒恨

一个高管甚至公开说过，中国人即使拿到光刻机图纸，也造不出来

而且，我国公司中芯国际早在2018年就向阿斯麦订购了一台超过一亿美元的高端光刻机，现在还没发货