其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关;光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关;高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关;EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发
超级好的光速啊,十年前买的一个一直都在用,用不坏的先锋,还会再买这个牌子的。。。。
虽然看起来28nm距离最先进的3nm依然有不小的差距,但实际上无论是日常生活还是航空航天等领域中28nm是使用最广泛的芯片制程
一旦28nm光刻机取得突破,也标志着在物联网、智慧工业、航空航天等领域可以完成自主可控