滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

众所周知，制造半导体离不开光刻机，而光刻机是人类文明智慧的结晶，有着“光学工业之花”以及“半导体工业皇冠之上的明珠”等诸多美称，上述美称集中反映了制造光刻机的技术难度

据悉，光刻机的制造涉及精密光学，超高分辨率仪器、自动化工业设计软件、高分子物理与化学等当今最为前沿的科学技术

先锋刻录机，15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错！14年的老电脑！就机箱和光驱没有换过啦！这次还换先锋的光驱！物美价廉

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快递超级给力，次日达。本次活动也可以呀。先锋的刻录机，多年的老牌子了，DVD刻录机还用着这个的。目前支持4K的光驱极其稀少了

为了缓解美国的芯片积压，其再度向ASML施压，令其终止对中国大陆的DUV光刻机进口

ASML这次无法忍耐，因为如果终止了与中国大陆的DUV光刻机贸易，则标志着ASML的基本生存都会出现问题

在这种情况下ASML一反常态，对于美国的意志进行了“背叛”，甚至公开表示会加大光刻机生产量，并将在华员工从200名提高到1500名向中国示好

但是现如今思考这些还为时尚早，对于中国来说，自身具备核心技术仍旧是重中之重

因此除了要加大与ASML的合作之外，还要防范对方进行低价倾销从而打击本土企业的利润，实现本国光刻机技术突破才是重中之重

曾有美国教授指出，如果建造原子弹难度是1，那么中国造光刻机的难度是10，因此有不少人发出疑问，原子弹和光刻机到底哪个更难造？甚至有人说，为什么我们把原子弹都造出来了，为何还造不出光刻机呢？这要说，这两者根本不具备可比性，以目前的技术来说，我们建造原子弹，自然已经不具备难度了，可是能否认原子弹是尖端技术吗？就在几十年前，更是世界最尖端技术的存在，我们建造出第一枚原子弹不难吗？科学家们，用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹，能不难吗？难，只是以目前的技术来说，再看过去，难度好似降低了

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ASML又开始出“幺蛾子”了

非常好用的一款光驱。京东快递送货很快昨天晚上下单今天就送到啦。表扬。电脑上已经有了一台先锋刻录机也是在京东买的。由于刻录机。比较挑盘所以特意又买了一台DVD。这台先锋dvd，读盘非常稳定几乎听不到噪声。就算是，再烂的盘，也是很安静。有一张高压缩的dvd，连续剧碟在刻录机里完全不能读，但是这个新买的dvd光驱。就很顺利地读完了。

把禁令当“废纸”!ASML交付光刻机

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很显然，美国把光刻机当成了阻碍我国芯片产业发展的“工具”

但意外的是，此次ASML却把禁令当成了“废纸”！不仅态度强硬的拒绝了老美限制DUV出货的要求，而且还明确表态不会放弃中国市场

而就在近日，ASML传出了重磅消息，已正式把光刻机交付给了鼎泰匠心等中企，并完成了相应的技术检测认证

对于正处爬坡破冰阶段的国产芯片而言，这无疑是个好消息

从短期看来，有了ASML的光刻机设备的支持，国产芯片在28nm节点左右的成熟工艺领域，产能和良率都能够得到有效的保障，有助于我们进一步降低对美芯的依赖

携带方便功能强很好用，读碟广泛很好的刻录机。读盘声音：小产品包装：严实稳定性能：稳定外形外观：好读盘速度：很快轻薄程度：适中

指望荷兰官方和 ASML 作出更大让步的可能性不大

中国市场贡献了 ASML 15% 左右的营收，如果禁令范围继续扩大至低阶一些的深紫外（DUV）光刻机，客户们会转而投向尼康、佳能等日系厂商

不过在一切尘埃落定前，中国晶圆厂们已经在趁着还能买时尽量多囤货

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被美国控制的ＥＵＶ光刻机技术虽然ASML掌握了EUV光刻机的核心技术，作为目前世界上唯一一家能生产出极紫外光刻机的企业，却并不完全掌握EUV交易的主导权，主要原因是因为EUV技术诞生和成熟都在美国，甚至可以说EUV技术是美国的技术，ASML的命脉还是捏在了美国企业的手里

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

光刻机禁令再扩大!美国施压荷兰ASML

　　光刻机最大的研制难度在于精密，制造过程中任何环节的差错都会导致光刻机运行出现问题，这也就间接的导致生产出的芯片不合格，而小到手表、手机，大到航空领域，没了芯片做支撑点，甚至于都开不了机，环环相扣的重要性让光刻机成为了半导体工业最关键的设备

这些专利也在我的前文中做过详细介绍，这里就不赘述了

《光刻技术》刊登的极紫外光源综述论文这篇论文也介绍了长春光机所的最新EUV反射镜及镀膜相关工作，最新的工作包括2020年的两篇论文

我此前介绍过长春光机所进口的德国EUV反射镜镀膜机，也是来自这一系列工作

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我们注意到几篇光刻胶专利都是2021年刚刚发表的

因此，很显然，这些资料已经充分地披露了最新的光刻机研究项目的进展，以这些资料作为背景做中国的光刻机困局的分析，是充分的、也是有时效性的

光刻机要一直被“卡脖子”?华为:我偏不...

国产 28 纳米光刻机，与已面世的5纳米顶尖制程，依然存在较大的差距，但部分常见的射频芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片，仍可以采用 28~90 纳米工艺

我国自主光刻机虽与外国先进水平仍有不小差距，但未来依然可期

简单来说解决这个匀光问题，对成品质量有着决定性作用，光越均匀，成品也就越好，大大提高了良品率

对华为的好处是，能更好地控制住成本，这样一来，商用的概率也就越大了

事实上，除了国产光刻机技术在不断发展，国外光刻机的卡脖子状况，也出现了松动的迹象