滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

促使ASML转变态度的原因还有美国的背叛，美国芯片企业美光研发了绕开EUV光科技的1β工艺，美国光刻机企业Zyvex公司研发的电子束光刻机更是将终结EUV光刻机，这更是会要了ASML的命，ASML的感觉就是它全力支持了美国，而美国企业却不让ASML活命

物流很快，上午下单下午就到了。东西很轻，主要用来读DVD和CD，目前没有什么问题，声音不大，刻录没用过。基本满足需求。

这一切欧盟各国都看在眼内，眼见这美国企业持续从中国市场获得丰厚收入，欧盟各国明白自己被摆了一道，这就是荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔发声的缘由，荷兰高官发声维护的无疑就是它的ASML，ASML已是荷兰不多的高科技企业了

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两三年后，林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来，显示它的技术优势，浸润式光刻机随即成为市场主流，至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业，此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固

拜登政府上台以来，反复提及产业链安全，要求美国及其盟友的龙头企业，将产能转出中国，转移到东南亚以及印度等国，以降低对中国产业链的高度依赖

一旦DUV光刻机也被纳入对华禁售范围，中国半导体企业的中低端芯片制造将面临比较大的困难，市场占有率也必然会下降

在美国政府看来，虽然中国出口的中低端芯片不会对美国、韩国以及欧洲等国制造的高端芯片构成挑战，但是中国也凭此占据了产业链中极为重要的一环，如果哪一天中国提高中低端芯片的售价或者限制出口量，一些同处一条产业链上的美欧企业，将会受到极大的影响

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只能通过台积电为媒介，向中国出口大量的DUV光刻机“维持生活”

但是DUV光刻机制作难度相对较小，ASML在全球范围内同样存在诸多竞争对手，油水一般，只能走量

但是大量的DUV光刻机进口，令我国实现了中低端芯片的自主生产以及自给自足，进而缩减了对于美国市场的中低端芯片进口，2022年砍单600亿颗芯片，令美国造成了严重的芯片积压

光刻机是制造芯片用的必然设备

现在很多人都说，制造光刻机比当年造原子弹还困难，是的，这话完全正确

现在信息发达；科技进步；设备先进；拥有众多有相关高深知识的专业人员，就是造不出光刻机，困难是显而易见的

问题在哪里呢？在此有一个问题需要说明：我国也可以造出芯片，但质量和规格跟不上当今尖端科技的需求

据说这样一台光刻机设备，要人民币30亿元

全世界生产光刻机最权威、最领先、最具实力的企业，就是荷兰的ASLM公司这家公司不是单兵作战，背后有美国和欧盟的强力支持光刻机的生产部件来自很多国家，有一万多部件组成

图为国产光刻机考虑到光刻机技术的发展需要大量时间沉淀，在目前阶段，中国应该大力发展中低端光刻机技术，并实现大规模量产交付，以此来扩大产业规模，培养技术人才，只有这样，中国才能追上与西方在技术上的差距，并早日实现高端光刻机的国产化

光刻机到底能用来干啥?制造难度究竟多大

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光刻机原料

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术

过去的这许多年，有众多的企业都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至还有上海微电子，大家都在光刻机上发力，想推出EUV光刻机，甚至换一个方向，用另外的技术来实现EUV光刻机的功能，但暂时都没有成功

这在当下晶体管体积越发接近原子体积时，将会越来越突出

而且台积电「环绕栅极式纳米片电晶体管」的通道可以加宽以增加驱动电流并提高性能，也可以缩小以最大限度地降低功耗和成本

为了给这些「纳米片电晶体管」提供足够的电能而且避免漏电损耗，台积电的N2制程使用背面配电线路（backside power rail）

读写速度比较快，基本上没有噪音，关键是耐用，之前一直在用Dell的，但是基本上很容易坏，用先锋之后就很好

不过他没提到买来机器后何时正式在芯片制程中使用