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光刻机要一直被“卡脖子”?华为:我偏不...
荷兰精密光刻机
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简单来说解决这个匀光问题，对成品质量有着决定性作用，光越均匀，成品也就越好，大大提高了良品率
对华为的好处是，能更好地控制住成本，这样一来，商用的概率也就越大了
事实上，除了国产光刻机技术在不断发展，国外光刻机的卡脖子状况，也出现了松动的迹象
不过，虽然国产光刻机开始不断进步，但技术差距和国外依旧有较大差距，这是客观现实
现阶段，我国无法制造高端光刻机，但可以制造一些低、中端的光刻机
2020 年 6 月，上海微电子设备有限公司透露将在 2021—2022 年交付首台国产 28 纳米工艺浸没式光刻机
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国产 28 纳米光刻机，与已面世的5纳米顶尖制程，依然存在较大的差距，但部分常见的射频芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片，仍可以采用 28~90 纳米工艺
国产光刻机技术有了新进展了！老狐最近得知，华为公布了自研光刻机的部分技术专利
根据专利显示，华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利，而是 EUV 光刻机其中一部分的专利
该专利主要解决光刻机中的“匀光问题”，匀光问题”是在匀光系统上所出现的问题
很明显，美国限制光刻机对中国出口，大大伤害了 ASML 的经济利益，他们不想再听美国人的话