滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

　　在半导体中，光刻机属于核心设备，它不仅是耗时最多、成本最高的一步，同时还拿捏着芯片制造工艺水平的命脉，目前最先进的 7nm、5nm及接下来的3nm、2nm都需要EUV光刻机，即使一台售价高达10亿人民币，依然是供不应求

真的佩服京东的快递神速，产品是全新的，等配件到齐了，用过后再追加评论……想买的别犹豫哇！没有廉价的感觉，很高端，特别棒！老牌子14年买了第一台，现在还在用。

　　据美国彭博社7月6日的报道，有知情人士透露，美国正在向荷兰政府施压，要求半导体制造商ASML公司禁止对华出口生产全球大量芯片所需的主流技术——从最先进的EUV扩展至相对成熟的DUV，试图通过卡芯片制造的“喉咙”遏制中国崛起的步伐

大品牌！值得信赖的！效果超级好！贵有贵的道理！很棒的商品！像之前的时候一直不知道先锋的光驱都没有，然后通过搜索之后啊，现在用光驱呀，就在先锋的光驱，真的是业界的精品。真的是挺不错的，嗯，反正是课本的话，然后速度超快，而且还稳定。小逼之前用的那种lg的还行的那种都好的太多了，真的是在大家都来购买。

显而易见，中国是他们“不想离开”的市场

今年年初关闭了在珠海运营32年的工厂之后，佳能却表示要投入500亿日元（约合25亿元人民币）新建半导体设备工厂，主要增产光刻设备，而建成后预计产能将提高2倍

读盘速度：读盘速度很快 读盘声音：读盘运行声音很轻不注意听几乎听不到声音 轻薄程度：宝贝很轻巧，拿在手上没多少重量 外形外观：外观大气，很喜欢

ASML公司发言人就有关消息回应称，“这种讨论并不新鲜

”报道提到，ASML是全球最大的光刻系统制造商，光刻机是半导体制造过程中的关键设备

ASML在此类设备的市场处于主导地位

这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！

挺不错的，物美价廉到货快，之前在京东买过两台同款的，确实很不错，这次趁活动再买三台囤着备用，还未启用。虽然说CD DVD刻录技术早已成熟，然而自从以前的先锋115CH刻录速度变慢以后（没飞过盘，只是刻录速度变慢），实体店买过两台某星的，那真是一塌糊涂，各种飞盘，刻录出来的数据面颜色都不均匀，也很难读取，没用几次就弃用了。之后看到京东自营有先锋的了，就买回先锋的，就这款，刻录声音很小，出盘的质量很高。虽然价格比以前便宜了，但质量确实没有缩水，这里面可能也是存在一点黑科技的。挺好的，应该还会再买。

之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。

至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般

至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域

美国为ASML光刻机提供关键的光源 然而，荷兰ASML公司已经在一定程度上依赖中国的市场了

据该公司财报显示，中国大陆是其全球第三大市场，营收总额达27亿欧元，约占其2021年全球营业额的1/7

由于从4年前起，美国就一直要求荷兰禁止ASML向中国出售高端光刻机，导致中国早已订货的EUV一直被拒绝交货，这在一定程度上打乱了中国生产7纳米芯片的计划

光刻机板块策略机会：光刻机板块情绪策略主要条件板块:光刻机;游资控盘度(游资高控盘, 游资关注);预收账款同比变化≥10%;在建工程同比≥10%;筛选条件：选股数量 (3,5);筛选因子:波段操作评分(从大到小);黑名单剔除;ST剔除;涨跌停剔除;光刻机板块情绪策略来源：阿牛智投我们按照上面的选股条件，依托大数据系统构建一个策略模型，策略表现情况如下：在2017年8月2日到2022年8月2日这五年时间里，策略年化收益能够达到24.89%，累计收益高达204.03%，最大回撤可以控制在27.91%，风险回报率达到1.00；而光刻机板块在这段时间里累计上涨了90.56%，上证指数更是累计下跌3.01%；策略表现在跑赢大盘的同时，也远远好于光刻机板块本身的上涨幅度

中国的目标，是要在2030年造出EUV极紫外光刻机，大家可能觉得，ASML2010年就已经开始量产光刻机，这会不会太晚了，事实上，这并不算太晚，我们通过不断地缩小所采用的光源的波长（EUV光源13.5nm），增强投影物镜的最小线条成像能力（提高数值孔径1.3）等方式，不断缩小能够加工的最小线宽

多次购买，用的都是这品牌，质量没的说，全五星，刻录很快，快递很快！电脑已经发走了，也没来得及试，这个价格很便宜，包装也很好，沉甸甸的，总体很棒

正如照相机拍摄照片是将影像印在底片上，而光刻机是将电路图和其他电子元件印在薄片上

王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾，王丽萍写道：“根据我国现阶段的技术基础和研究目标，两镜微缩投影系统的研究仍为重点”

两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同，它不具有生产能力

刻录机非常好，读写静音极佳，刻盘质量极佳，是我用过的最好刻录机，质量也非常过硬，下次一定在来买。

而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等

目前全球的光刻机厂商，真不多，特别是用于芯片制造的，也就是前道光刻机，全球也就四家，分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子

至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般