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?直接从主机前面的口插进去的，插上线，开机放碟，立马就可以用了。很快。目前没什么问题。

目前的硅基芯片性能提升主要依赖芯片制造工艺的提升，然而业界都清楚硅基芯片的极限是1nm，而目前最先进的芯片制造工艺是3nm却已面临巨大困难，三星的3nm工艺技术更先进但是良率太低，台积电的3nm工艺基于成熟的FinFET技术却导致性能提升有限而成本过高被苹果舍弃

点单位光盘。以前就用的先锋的。品质非常好，用了好多年了，所以这厮继续购买。商品应该不错。待会儿去试用，用好了再来评价。希望这个产品也好，哪，有一些优惠活动。这样。可以在购买很多。另外价格教师再降点就好。

读盘速度：先锋存储名不虚传啊，原来用的也是先锋的，用了有10年，终于退休了 读盘声音：声音很小，几乎听不到 稳定性能：稳定性超强，刻录CD非常快，音质也超棒 轻薄程度：外置光驱吗，都一样薄厚，没有太厚的 外形外观：外观就是比原来的降了档次，原来的机器都是金属外壳，现在的是工程PVC的，更轻一些 产品包装：产品包装结实，原封装，没动过，全新

据悉，建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程

项目完成后，可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片，主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品

面对美国公布的一系列针对中国半导体产业的最新出口管制措施，ASML首席财务官达森称，美国新法规对公司光刻机的出口影响是有限的，因为ASML是一家欧洲公司，其机器中使用的美国零件很少

更加需要中国长时间与美国的“拉扯”以及对外的公开表态显示，和全球其他半导体行业企业一样，ASML不想因为政治原因放弃在中国的巨大利益

向中国出口光刻机

顾文军对《环球时报》记者表示，美国对中国半导体产业的限制，已经从制裁中国半导体企业，到限制国外半导体企业在华发展

如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，首台交付时间就在明年

一旦我国光刻机被研制出来，那么ASML的市场就会被严重挤压

第三就是DUV光刻机对美国技术依赖较低

因为技术依赖程度比较低，所以ASML想卖DUV光刻机给中国，美方根本阻止不了

ASML为何坚持向中国出售光刻机？主要还是有以下几点原因

首先是为了自己的销售额，据相关数据统计，全球100多家芯片企业中，我国的芯片厂商就有42家，如今高端芯片被台积电和三星这些龙头企业所垄断，而我国中低端芯片产能还非常高

光刻机预定参数

物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖

帮同事买的，品质一流，狠满意的一次购物。读盘能力强，噪音小，读取速度快，刻录时间和刻录质量稳定，同事都说好。包装完整，物流非常快，超级赞！！

由于要实现更精细的工艺节点，光刻机必须要把光刻画成直径极其微小的线条，而这个初始光源就显得尤为重要了

EUV光刻机使用的是13.5纳米的极紫外线，这种紫外线是短波紫外线多次反射后得到的

而得到这个光的方法，不亚于用乒乓球打苍蝇，而且是每秒要打五万次，次次都得击中

那么，到底什么是光刻机？掌握这项技术的国家又是哪两个？为什么光刻机的制造会这么困难？接下来，就让我们一起来看看被誉为新时代“神器”的光刻机究竟有什么特殊之处

人类高科技的产物——芯片在这项技术当中，最为重要的就是“光刻技术”，因为它的进步可以使摩尔定律不断延伸，让更多的“高端芯片”得以出现

光刻机三大性能

全世界仅两个国家掌握技术

资料显示，EUV光刻机采用波长为13.5nm的激光等离子体光源作为光刻曝光光源

使其波长达到193nm的1/14，几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，将最小工艺节点推进至7nm

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

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俄罗斯用光刻机换口罩

ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了，这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平，以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米，再先进的工艺就得另寻它法

当台积电在2nm研发上切入GAAFET（环绕栅极晶体管）技术时，其竞争对手三星则早在2年前其揭露3nm技术工艺时，就宣布从FinFET转向GAA，并「大放厥词」：2030年要超过台积电，取得全球芯片代工龙头地位

老牌半导体经销商智融科技的高管Dan Hutcheson称，「High-NA EUV光刻机是芯片制造业的下一个重大创新突破，拥有者将会引领行业

」台积电负责研发的高级副总裁米玉杰称：「2024年的此引进，将会用来开发相关基础设施与类型工艺，以求推动能满足顾客的创新」

此外，再看光刻机的研发技术，可以说，每一个部位都需要做到极致才可以，比方说，如果想要制造出1nm的芯片，那么，就相当于是一根头发丝的五千分之一那么小，而如今，国际上已经开始生产3nm的芯片了，而国产芯片最快有望在2023年的时候，才可以实现14nm的量产，从这里可以看出，我国在技术上是存在多大的差距

外形外观：精美 读盘声音：静音 稳定性能：稳定 轻薄程度：超薄 产品包装：精美 读盘速度：快

读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！