近几年来中国极力发展芯片制造产业链，经过近十年来的努力，中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm，刻蚀机更已达到5nm，而芯片封测技术已达到3nm，仅有光刻机还停留在28nm以上
光刻机也成为中国芯片制造最后需要打通的环节，而随着更多企业的加入，特别是近期一家重量级企业成功研发了光线折射技术，对于中国的光刻机产业来说无疑是巨大的突破
光刻机的作用光刻机是用来制造芯片的
光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用来光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备
而根据IBS的数据2022年中国大陆的芯片自给率只有25.61%
要在3年内达到70% 的目标，中国必须继续加码半导体产业投入，力争做到全产业链自给自足
难啃的光刻机要谈到芯片制造，首先要提到的就是被誉为半导体工业明珠的光刻机，它代表了半导体制造技术的巅峰
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而量子芯片，它其实指的将量子线路集成在基片上，进而承载量子信息处理的功能
它与传统的硅基芯片最大的区别在于运算速度极快，或者说完全不在一个量级上
当然，ASML肯定不会承认是怕别的技术或厂商抢了市场，只说自己是看到市场需求过大，供不应求，所以才扩产的
但事实是，当一个市场，只有一家企业能提供产品时，这个市场就是被垄断着的，所以ASML就算再增加产能，也一定会有其它厂商有其它想法
2021年，ASML的EUV光刻机一共只卖出了42台，实际上市场上的需求达到了60多台，但ASML就是不生产这么多出来
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而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片
至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的
其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机，绕开了ASML的EUV光刻机，并且将先进工艺提升到0.768纳米，打破了ASML尚未量产的第二代EUV光刻机的极限，为芯片制造开辟了新的道路，如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机
中国芯片制造企业以现有的DUV光刻机将芯片制造工艺推进至7nm，国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术，如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片，对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降
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【文/观察者网 吕栋】 当地时间7月20日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在披露财报时发出警告称，如果美国迫使该公司停止向中国大陆销售其主流光刻设备，全球半导体供应链将面临中断
” 温彼得透露，政客们时不时就要提出限制向中国大陆销售深紫外光刻机（DUV）的计划，但世界“不能忽视”中国大陆半导体产能对全球电子产业的重要性
先锋这个品牌也算是小时候就有的记忆吧。这次自己趁618搞活动，自己组装了一台电脑。我自己偶尔会用到光盘，所以组装电脑的时候比较在意光驱。比来比去选了先锋光驱。用了一段时间了，功能一切正常。读取速度很快。满意。京东快递也很给力。第二天就到货了。点赞。
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并且Zyvex还接受电子束光刻机订单，称只需要6个月就可以交货，很明显，这种技术也能够替代EUV光刻机，唯一的用这种方式，速度非常慢，但后期还有改进空间
第三大方案则是自组装（DSA）光刻，所以谓的自组装光刻，就是用一些化学物质，诱导光刻材料在硅片上自发组成我们需要的结构，中间不需要光刻机参与
第二大方案是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替代极紫外线，电子对应的波长只有0.04纳米，加工精度就比EUV又高了不少
目前在这一块比较突出的是美国，前不久前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm）
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