光刻机技术未来发展
早前中国招标28台光刻机的时候，其中21台给了日本光刻机企业，7台给了中国大陆的企业；中国的芯片封测企业已在封装技术方面推出了5nm芯粒技术，还在量子芯片、光子芯片等技术方面取得突破，显示出中国正在决意绕开ASML的EUV光刻机
日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺，据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm，NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成，这对于ASML同样是重大打击，日本芯片设备行业曾经领先ASML，如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业，日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草