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光刻机_雕刻机_曝光系统

为何无可替代?因为是美欧日韩台一起在战斗，光刻机制造难度有多大2023-02-21 13:16:15

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术

为何无可替代?因为是美欧日韩台一起在战斗

为何无可替代?因为是美欧日韩台一起在战斗，光刻机制造难度有多大

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