研发的光刻机计划达到EUV级别,但技术原理完全不同,是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机,成本相对低廉,X射线光刻机使用的是X射线,波长介于0.01nm到10nm之间,比EUV极紫外光还要短,因此光刻分辨率要高很多,加上俄罗斯具有雄厚的工业基础,可以一探究竟
装上去试了一下。运转声音很静,读碟很快,比以前那个好多了。好用,以前一直都是喜欢用先锋刻录机,非常好用,京东购买,还便宜,性价比高。
光刻机主要分为哪些部分呢?其实主要是双工件台、光学系统、物镜系统、控制软件,让我们看看国内在这些方面都有哪些突破呢?双工件台由华卓精科负责,华卓精科成功研发超精密磁浮双工件台系统,打破ASML垄断,使中国成为全世界第二个掌握该项技术的国家