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光刻机曝光系统概念股

在2021年年底，台积电正式提出2nm以及后续1nm的工厂扩建计划

预计总投资金额将高达8000亿至1万亿新台币（约1840-2300亿元），占地近100万平方米

另外，台积电1nm研发也取得了一些进展

在2021年，台大与台积电、美国麻省理工学院合作研究发现二维材料结合「半金属铋（Bi）」能达极低电阻，接近量子极限

老牌半导体经销商智融科技的高管Dan Hutcheson称，「High-NA EUV光刻机是芯片制造业的下一个重大创新突破，拥有者将会引领行业

有兴趣的朋友可以去美国知识产权中心网站查阅一下 EUV的专利，你会发现，我们公司、科研机构、大学等都拥有 EUV的专利权，你可以去上海光机所看看， EUV光刻机的招聘工作，也是最近才开始招人的

国望光电在年初就已经在竞标无尘室内，国望是国内主要的光刻机曝光设备，各位可以看看下面的图片

华为公布计划后，ASML怂了也许大家对此并不熟悉，尽管荷兰 ASML公司占据了日本的一部分市场，尼康、佳能等公司占据了一定的份额，但由于国内的竞争越来越激烈，美国的公司也相继破产，被兼并，最后才有了 ASML、尼康、佳能三家公司的格局

上午下单，下午不到晚上就到了，配送超快，当地大库发货就是方便，拿着比较轻希望耐用，读盘静音快速，刻录快也很静音，数据写入平稳，没有送刻录软件和数据线，价格便宜，用原有的Nero9赠送版本能识别出新光驱，面板简洁。

非常好，读碟很快，刻录速度快也很稳定，送货神速。好评！先锋刻录机，装进去马上能用。老品牌值得信赖！和我的酷冷至尊机箱很匹配。

未来比 3nm 更先进的工艺，将极度依赖高 NA EUV 光刻机

ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：在高 NA EUV 方面，我们取得了良好的进展，目前已经开始在我们位于维尔德霍芬的新无尘空间中打造第一个高 NA 光刻

当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星，它们目前推进的最先进工艺为3nm，然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期，这已导致苹果放弃了3nm，迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

三星的3nm工艺表现较好，但是三星的3nm工艺在良率方面却比台积电更低，导致成本奇高，失去经济价值

在摸索出一条道路之后，还要特别注意在生产方面需要保持严谨

最后一点就是更深地融入全球产业生态当中，让中国也成为高端光刻机产业链中上游当中，一个不可或缺的存在，加强与其他企业之间的合作

只有这样，我们才能不断地进步

读盘速度：读盘速度很快的，pineer先锋大品牌，品质有保障。 产品包装：包装结实，简单。 读盘声音：读盘声音不大，可以接受。 稳定性能：稳定性好。 轻薄程度：很轻薄，方便携带外出？。 外形外观：外形简约，灰黑色的，显得特别上档次。 京东自营的，物流给力有保障，好评好评。

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

先锋刻录机中的战斗机，老品牌值得信赖，刻录很稳定，静音，读取数据很快。读盘速度快，声音轻，很稳定。不愧是光驱界的老大。

尽管目前我国已经成为ASML最主要的消费市场之一，但ASML的最顶尖光刻机一直不愿意向我国出售，就算我们愿意出更高的价格购买，他们也不愿意卖，这是相当尴尬的一件事情

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

读盘速度：读盘速度快，我喜欢。读盘声音：声音也不大，不像二手的。稳定性能：性能也很稳定。非常好用，以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试，稍后有空再操作！

本人电脑配光驱是并口的，现在换了新主板已经没了并口，只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱，用了多年性能依旧良好，所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错，读盘很快，刻录效果也不错，声音很小，而且价格很实惠。

今年7月起，美国已陆续派出官员赴荷兰施压，要求阿斯麦公司扩大对中国的禁售范围

施赖纳马赫尔周五表示：“我们正与美国进行谈判，显然他们已经宣布了单方面措施

读盘速度：很快哦 读盘声音：很小哦，静音呢 轻薄程度：一般哦 外形外观：很靓哦，总体满意

先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！

有美媒表示，ASML争取光刻机出货的态度拦不住了

DUV光刻机只是中低端设备，但需求量大，应用性强，ASML一定会维持DUV光刻机的出货状态

不过，虽然国产光刻机开始不断进步，但技术差距和国外依旧有较大差距，这是客观现实

现阶段，我国无法制造高端光刻机，但可以制造一些低、中端的光刻机

2020 年 6 月，上海微电子设备有限公司透露将在 2021—2022 年交付首台国产 28 纳米工艺浸没式光刻机

很明显，美国限制光刻机对中国出口，大大伤害了 ASML 的经济利益，他们不想再听美国人的话

今年第一季度 ASML 就向中国出货了 23 台 DUV 光刻机，中国市场就此超过美国，成为 ASML 第三大市场