在先进晶圆厂,28纳米以下的逻辑芯片制程,其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加,所以节点越先进,EUV光刻机所需数量越多
所以,28纳米以下的高级逻辑芯片,其光刻设备的投资额度,将随着逻辑节点的代差,指数级增加
目前的顶尖芯片制造三强,台积电、三星、英特尔,通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展,获得了大量的利润,进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发,从而形成一个良性的循环
“弯道超车”党看不见这些,他们整体呼喊着“弯道超车”的“商业模式”,无非是左右国家科技投入政策,将一笔又一笔的千亿规模的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏模式中去罢了