而且DUV光刻机的关键部件,如双工件台、浸没系统等,主要技术来自ASML自己,所以说ASML在DUV光刻机上拥有着说话的底气
当然,内部因素其实还不是最主要的,主要还是来自外部因素
所谓的外部因素,就是DUV光刻机毕竟是一项已经成熟的产品,从本质上说,DUV光刻机没有技术上难以逾越的鸿沟
换句话说,只要假以时日,愿意投入资金去研发,是都可以研发出来的
例如我们国产光刻机,早就已经实现了DUV光刻机的量产
EUV光刻机与DUV光刻机的关键不同,是光源的不同,EUV光刻机的光源波长更短,制造难度很大