第章光刻机
DUV光刻机又有两大路线,其中一种就是ASML为代表的浸润式光刻机,以水为介质,采用193nm波长的光线,在水中折射后,变成132nm,而这种设备一次曝光可以生产45-28nm的芯片,价格比EUV便宜一半
美国要求荷兰对华禁售ASML光刻机
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