第章光刻机
DUV光刻机又有两大路线，其中一种就是ASML为代表的浸润式光刻机，以水为介质，采用193nm波长的光线，在水中折射后，变成132nm，而这种设备一次曝光可以生产45-28nm的芯片，价格比EUV便宜一半
美国要求荷兰对华禁售ASML光刻机
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方正证券发布研报称，光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，技术要求极高，在制造设备投资额中单项占比高达23%
而目前，全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能所垄断，当前实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义
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而这么亮眼的业绩，主要归功于EUV光刻机的贡献
公司CFO Roger Dassen此前接受采访，当被问及美国半导体禁令对ASML业务有什么影响时，他表示，尽管美国对华禁售EUV光刻机，但ASML可以直接向中国出口DUV光刻机，无需美国的授权
2、美国通过ASML的上市公司身份入股
随着其在DUV时代取得成功，英特尔入股ASML叠加并购加速，2012年，英特尔、三星、台积电共同买入ASML 23%的股权，获得了ASML EUV光刻机的优先供货权，成为了利益共同体
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报道称，由于无法获得荷兰政府的出口许可，ASML已经无法向中国出口其最先进、每台售价约1.6亿欧元的EUV光刻机
而美国此次针对的这些旧款DUV光刻机，可生产7nm及以上制程工艺芯片，是制造汽车、手机、计算机乃至机器人所需的某些非先进芯片的最常用设备，在目前全球芯片短缺之际必不可少
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