佳能一直非常重视NIL纳米压印技术，甚至在2021年就造出了机器，被铠侠用于NAND闪存制造中，只不过目前精度还不太够，不能替代EUV光刻机
但在NIL技术上，佳能的专利最多，技术最成熟、最先进，很明显，佳能就押注这个技术了
这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术
并且Zyvex还接受电子束光刻机订单，称只需要6个月就可以交货，很明显，这种技术也能够替代EUV光刻机，唯一的用这种方式，速度非常慢，但后期还有改进空间
第三大方案则是自组装（DSA）光刻，所以谓的自组装光刻，就是用一些化学物质，诱导光刻材料在硅片上自发组成我们需要的结构，中间不需要光刻机参与
佳能一直非常重视NIL纳米压印技术，甚至在2021年就造出了机器，被铠侠用于NAND闪存制造中，只不过目前精度还不太够，不能替代EUV光刻机
但在NIL技术上，佳能的专利最多，技术最成熟、最先进，很明显，佳能就押注这个技术了
这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术
刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！
所以其它厂商，只能另想办法，换道超车，用另外的技术来替代EUV光刻机
目前已经有三大方案，都被认为是可以替代EUV光刻机方案的，并且被大家重视，很多企业更是投入巨资研发，以期有所突破，进而替代EUV光刻机
第一大方案是NIL纳米压印，其原理类似于打印机一样，先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达到至少2nm的精度
前一个先锋刻录机用了12年装系统读盘报错了。又买个先锋。非常好用。先锋蓝光刻录机己收到，快递物流快，送货上门，很方便
先锋刻录机中的战斗机，老品牌值得信赖，刻录很稳定，静音，读取数据很快。读盘速度快，声音轻，很稳定。不愧是光驱界的老大。
非常好用，安静，可以读取和刻录dvd-ram碟片，但我发现这款和华硕那款同价位的造型都一样，功能也一样，怀疑是同一间厂生产。
这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术
众所周知，光刻机是芯片制造的母机，是最核心的设备之一
而EUV光刻机，则用于7nm及以下的芯片制造，且只有ASML一家企业能够生产
考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机，且与上下游形成了利益同盟，所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML，基本上不可能的
并且Zyvex还接受电子束光刻机订单，称只需要6个月就可以交货，很明显，这种技术也能够替代EUV光刻机，唯一的用这种方式，速度非常慢，但后期还有改进空间
第三大方案则是自组装（DSA）光刻，所以谓的自组装光刻，就是用一些化学物质，诱导光刻材料在硅片上自发组成我们需要的结构，中间不需要光刻机参与
不过可惜的是，当前我们似乎在这三种方案上都不太突出，当然也有可能是保持低调，不愿意秀出实力来，但不得不说，研究EUV光刻机，或者研究能替代EUV光刻机的技术，对于中国芯而言，是势在必行，再难也要上的，否则中国芯就会一直被卡脖子，你觉得呢？
这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术
读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方
不过可惜的是，当前我们似乎在这三种方案上都不太突出，当然也有可能是保持低调，不愿意秀出实力来，但不得不说，研究EUV光刻机，或者研究能替代EUV光刻机的技术，对于中国芯而言，是势在必行，再难也要上的，否则中国芯就会一直被卡脖子，你觉得呢？
先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中
所以其它厂商，只能另想办法，换道超车，用另外的技术来替代EUV光刻机
目前已经有三大方案，都被认为是可以替代EUV光刻机方案的，并且被大家重视，很多企业更是投入巨资研发，以期有所突破，进而替代EUV光刻机
第一大方案是NIL纳米压印，其原理类似于打印机一样，先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达到至少2nm的精度
众所周知，光刻机是芯片制造的母机，是最核心的设备之一
而EUV光刻机，则用于7nm及以下的芯片制造，且只有ASML一家企业能够生产
考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机，且与上下游形成了利益同盟，所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML，基本上不可能的
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