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光刻机折叠:半导体公司赚的多

读盘速度：读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定！ 读盘声音：静音效果好，不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能：支持UHD 的4K蓝光盘读写！这点非常棒，是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好，连续读写不降速。 轻薄程度：正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观：外观漂亮，新款带类钢琴烤漆面的一体式面板，比老款好看很多。 产品包装：包装精致，不知道是不是因为是国内总代的关系，所有一次性封贴都是索厉的。

做工很好，工作稳定，噪音小，读光盘快速静音，刻录光盘可靠性高。有说明书，附带安装螺丝。外包装是纸箱，无挤压变形。京东物流很快，快递小哥直接送到家。

国产光刻机技术有了新进展了！老狐最近得知，华为公布了自研光刻机的部分技术专利

根据专利显示，华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利，而是 EUV 光刻机其中一部分的专利

该专利主要解决光刻机中的“匀光问题”，匀光问题”是在匀光系统上所出现的问题

携带方便功能强很好用，读碟广泛很好的刻录机。读盘声音：小产品包装：严实稳定性能：稳定外形外观：好读盘速度：很快轻薄程度：适中

一直用的这个品牌的，质量非常好，还没上手用新买的，希望能够好用，一次买了两个，办公方便。

正品，发货速度也很快！这款蓝光刻录机支持16倍速，而且非常静音，刻录数十G光盘?最佳选手。省时间啊！美中不足没有附赠刻录软件

之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。

超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。

正是由于这样的原因，才让中国的芯片制造企业起色一直不太好，而美国方面的打压，也让我们的芯片制造行业进入了一定的低谷期，但即使这样中国也没有放弃在这方面的技术突破，甚至在美国打压的那段时间，我们发动的科研人员，国家企业，以及很多民营企业做共同的努力，所以最后的成效，虽然比较好，但是想要赶上发达国家还是不太可能

外包装没有温謦提示封条。读盘还快，刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整，安装方便，装好以后读盘速度很快，很不错的一个光驱，值得购买

实际上，就在今年年中的时候，台积电方面就表示，将CEFT晶体管技术作为未来的发展重点，且将CFET作为GAAFET的接班人，GAAFET是3纳米和2纳米工艺的晶体管技术，3纳米之前采用的是FinFET晶体管，英特尔方面也在大力发展CEFT晶体管

正相反，台积电反而开始积极扩建28纳米等成熟工艺工厂

这还只是同质异构芯片刚刚被应用的开始，而异质异构芯片量产后，这种趋势将会更加明显

正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞

物流快得惊人，头一天下午下单第二天早上就到了，神速啊，送家里了，下班后试试产品会追评。

不愧是老牌子，质量杠杠滴，上一个也是买的先锋，用了快十年，还能继续用，这次再买个新的，速度不稳定，忽快忽慢的，但是快起来的时候真快

读盘速度：很快 读盘声音：很轻 稳定性能：很好 轻薄程度：超薄的 外形外观：大气 产品包装：严谨

已经收到货了，开箱后使用了几天才来评价，质量不错，读碟快速度，刻录光盘刻录一部超清电影，播放出来，何蓝光碟差不了多少，反复刷两次光盘都一样没变化，打开之后第一感觉就是非常喜欢外观时尚大方，价钱也实惠，性价比高，装上之后车试一下，读碟很好，刻录光盘也很好，很流畅，非常愉快的一次购物，京东真的很不错，下次还会推荐朋友们过来购买

读盘速度：读取速度很快， 外形外观：外观很漂亮。 读盘声音：几乎无声音。 产品包装：包装很完美。 稳定性能：性能很稳定。 轻薄程度：完全正常。

而国际中高端光刻机市场，一直被ASML垄断

华为公布光刻机计划后

所以，当老美政府要求 ASML停止销售 EUV光刻机和 DUV光刻机的销售后， ASML公司就会提出反对意见，而 ASML公司也曾说过，荷兰的物理法则和中国的法则是相同的，中国完全有能力生产出最好的光刻机

这款蓝光刻录机价格太硬了，我等了一年终于降价了，赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机，用了十几年了还在用，刻录杠杠的，没一点问题，声音特别小，性能稳定，外观大气，读写速度都很快，质量绝对硬！！

光驱配光盘，一起下单，双十一真是优惠到爆炸，比平时便宜太多。这款光驱稳定性很好，支持老式电脑，读盘速度快，，声音小，，非常满意！

而且同一个液滴需要在极端时间内被连续轰击两次，第一次冲击是将它压平，第二次冲击是将它汽化，使之成为发光的等离子体，这样才能产生足够强度的极紫外光

更重要的是，轰击所产生的光转瞬即逝，因此需要每秒钟轰击约五万次，才能保证光的持续性

原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）

读盘速度：很快 读盘声音：还好 稳定性能：不错 轻薄程度：够短 外形外观：憨厚 产品包装：很好

一台 EUV 光刻机重达 180 吨，超过 10 万个零件，需要 40 个集装箱运输

中国为什么还造不出最顶级的EUV光刻机很多朋友又会说了，为什么国外可以造出如此顶级的光刻机，中国不可以

ASML能够造出EUV极紫外光刻机，还要多亏了美国

光刻机为什么重要，就是因为只有通过光刻机，把电路图和其他电子元印在硅片上，才有制造出芯片的可能光刻机需要在一块指甲盖大小的硅晶片内，映射出几十亿甚至上百亿个微小的单元，目前最先进的光刻机能够加工的最细线条已经达到13nm