ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了,这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平,以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米,再先进的工艺就得另寻它法
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