所以,我们认为 ASML很难离开 DUV光刻机,特别是中国, DUV光刻机主要集中在中国,而 DUV光刻机也是中企最关心的问题, ASML很有可能会在 DUV上取得重大的进展,一旦 ASML退出,那么结果可想而知
读盘速度:读取速度挺快 读盘声音:很安静 稳定性能:兼容性好,win10免驱 产品包装:完美 外形外观:大方
也就是说,28 nm的光刻机是可以预期的,根据 ASML的发展历程来看,28 nm到10 nm的光刻机,最快也要5年,28 nm是光刻机的关键点,而28 nm是最重要的环节,也是最好的选择,也是最好的选择,只要能将28 nm以上的技术全部攻克,那么接下来的提升就简单多了